发布日期：2026-02-17 12:39    点击次数：178

国度学问产权局信息自大，上海华力集成电路制造有限公司恳求一项名为“平面器件过头制造法度”的专利，公开号CN121531748A，恳求日历为2024年8月。

专利节录自大，本发明公开了一种平面器件，酿成于半导体衬底上，半导体衬底的顶部名义上递次酿成有材料不同的第一和第二半导体外延层；在平面器件的酿成区域中，第一和第二半导体外延层具有图形化结构，包括：源漏酿成区域中的第一和第二半导体外延层齐被去除并酿成有第一沟槽。在第一沟槽中填充有第一介质层，第一介质层的顶部名义位于第二半导体外延层的顶部名义和底部名义之间。栅极区域中酿成有由第一半导体外延层被去除后酿成的闲隙结构。第三半导体外延层酿成于第二半导体外延层的顶部名义和潜入的侧面并和第二半导体外延层组成顶部外延层。栅极结构酿成于闲隙结构顶部的顶部外延层的顶部名义上。本发明还公开了一种平面器件的制造法度。

天眼查贵府自大，okooo上海华力集成电路制造有限公司，建筑于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息时候办职业为主的企业。企业注册成本2960000万东说念主民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标形状2095次，专利信息2708条，此外企业还领有行政许可397个。

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